200 kV Implanter
Contacts
Laboratorij za interakcije ionskih snopova (LIIS) opremljen je s dva ionska ubrzivača, 1 MV Tandentron i 6 MV Tandem Van de Graaff kojima se mogu ubrzati različiti ioni na energije od 200 keV pa sve do nekoliko desetka MeV-a. Takvi ioni koriste se za analizu sastava materijala metodama RBS, PIXE, TOF-ERDA, a može se raditi i modifikaciji svojstava materijala ionskom implantacijom. Krajem 2022. završena je instalacija trećeg ubrzivača, čiji je maksimalni radni napon +/-200 kV, te se njima pokrivaju energije iona manje od 200 keV-a. Trenutno, implanter je opremljen plinskim izvorom pozitivnih iona kojim se mogu dobiti ioni He, N, O, Ar, energija do 200 keV-a i struja do nekoliko stotina nA. Vakuumska komora za ubacivanje i ozračavanje uzoraka je u postupku nabave.
General instrument information
Characteristics
1. Plinski ionski izvor, Prevac IS40-PS
2. Izvor visokog napona (+/- 200 kV), Glassman PS/PK200R018
3. Vakuumske cijevi, slitovi, deflektori i optički elementi (Einzel leća)
4. Akceleratorska cijev
5. Izolacijski izvor napajanja od 220 V
6. Vakuumska pumpa, Pfeiffer, HiPace 700
7. Analizatorski (90°) magnet
8. Napajanje analizatorskog magneta, Danfysik 858 (32V, 160 A)
9. Visokonaponsko napajanje Einzel leće, Glassman PS/ER15P20, + 15 kV, 20 mA