Skip to main content

Ozračivanje uzoraka ionskim snopovima moguće je provesti sa svim ionima koji se mogu proizvesti u nekom od dostupnih izvora negativnih iona akceleratorskog sustava IRB-a (sputtering, direct exchange duoplasmatron i Alphatross). Najčešći ioni su H, He, Li, B, Be, C, O, Si, itd.)
Energija iona može biti u području nekoliko desetaka keV (direktno iz ionskih izvora) ili između 400 keV i nekoliko MeV (iz nekog od tandem akceleratora).
Maksimalne ionske struje su 1 uA a ovisi o učinkovitosti ionskog izvora i energiji te nabojnom stanju iona.
Površine uzorka koje se zrače su tipično do 100 mm2, a ukoliko se zračenje vrši na ionskoj mikroprobi površine mogu biti i u području nekoliko mikrometara. Nai ionskoj mikroprobi je moguće zračenje odnsono implantacija i pojedinačnih iona u točno određene pozicije na uzorku s razlučivanjem od 1 um.
Na eksperimentalnoj liniji sa dvostrukim snopom, moguće je istovremeno ozračivanje uzoraka sa dva snopa (iz dva akceleratora)

General instrument information

Skraćeni naziv instrumenta
Ozračivanje ionskim snopovima
Kategorija
kapitalna
Vrsta analize
strukturna analiza
Tijelo koje je financiralo nabavku opreme
IAEA , Matična ustanova , Europska komisija , Instrument je izrađen u ustanovi , Donacija , Ministarstvo znanosti i obrazovanja RH (MZO)
Vanjski link za kapitalnu opremu (sestar.irb.hr)

This site uses cookies.

Some of these cookies are essential, while others help us improve your experience by providing insights into how the site is being used.

For more detailed information on the cookies we use, please check our Privacy Policy.

  • Necessary cookies enable core functionality. The website cannot function properly without these cookies, and can only be disabled by changing your browser preferences.