Prijeđite na glavni sadržaj

Ozračivanje uzoraka ionskim snopovima moguće je provesti sa svim ionima koji se mogu proizvesti u nekom od dostupnih izvora negativnih iona akceleratorskog sustava IRB-a (sputtering, direct exchange duoplasmatron i Alphatross). Najčešći ioni su H, He, Li, B, Be, C, O, Si, itd.)
Energija iona može biti u području nekoliko desetaka keV (direktno iz ionskih izvora) ili između 400 keV i nekoliko MeV (iz nekog od tandem akceleratora).
Maksimalne ionske struje su 1 uA a ovisi o učinkovitosti ionskog izvora i energiji te nabojnom stanju iona.
Površine uzorka koje se zrače su tipično do 100 mm2, a ukoliko se zračenje vrši na ionskoj mikroprobi površine mogu biti i u području nekoliko mikrometara. Nai ionskoj mikroprobi je moguće zračenje odnsono implantacija i pojedinačnih iona u točno određene pozicije na uzorku s razlučivanjem od 1 um.
Na eksperimentalnoj liniji sa dvostrukim snopom, moguće je istovremeno ozračivanje uzoraka sa dva snopa (iz dva akceleratora)

Opći podaci o instrumentu

Skraćeni naziv instrumenta
Ozračivanje ionskim snopovima
Kategorija
kapitalna
Vrsta analize
strukturna analiza
Tijelo koje je financiralo nabavku opreme
IAEA , Matična ustanova , Europska komisija , Instrument je izrađen u ustanovi , Donacija , Ministarstvo znanosti i obrazovanja RH (MZO)
Vanjski link za kapitalnu opremu (sestar.irb.hr)

Ova stranica koristi kolačiće

neki od tih kolačića nužni su za ispravno funkcioniranje stranice, dok se drugi koriste za praćenje korištenja stranice radi poboljšanja korisničkog iskustva.

Za više informacija pogledajte naše uvjete korištenja.

  • Kolačići koji su nužni za ispravno funkcioniranje stranice. Moguće ih je onemogućiti u postavkama preglednika.